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Extreme Ultraviolet Lithography

   
지은이 Banqiu Wu   |   출판사 McGraw-Hill  |   발행일 2009년 05월 31일   |   언어 : English
 
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판매가 144,000원129,600원 10%
마일리지 1% 1,440원
발행일 2009-05-31 | 중량: 0.76 kg | 사이즈: 15.5*23.1*3 cm
ISBN 0071549188 | 9780071549189
기타정보 원서 | 450쪽 | $ 140 | Hardcover
예상출고일 1~2일 이내 (근무일기준)
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전자공학
   
 

Explains the most promising innovation in microlithography. today. .

This landmark resource provides the first complete guide to. extreme ultraviolet lithography (EUVL), covering the latest scientific. theory, processing methods, applications, and future. directions. Edited by two renowned EUVL experts, the reference. contains contributions by prominent engineers at leading semiconductor. manufacturers such as Intel and ASM Lithography.. Designed to help you optimize. EUVL, Extreme Ultraviolet Lithography covers EUV. lithography tools, EUV printer, EUV sources, multilayer EUV, EUV. optics, defect control, resist, mask techniques, and more.

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